Global Informatics
где
- число слоев,
- эффективная площадь кристалла.
Полученное количество слоев металлизации больше допустимого. Поэтому попробуем уменьшение шага трасс металлизации. Примем
.
Тогда
и
При этом:
Площадь сечения металлизации уменьшается на коэффициент
, а плотность тока увеличивается на этот же коэффициент. Получаем
что укладывается в заданные параметры.
Десятый слой остаётся свободным, на котором можно разместить контактные площадки и часть разводки, для разгрузки нижних слоёв, с большим шагом.
Статья в тему
Трасса прокладки волоконно-оптической линии передачи между пунктами Орел-Пенза
В
современном информационном мире каждые пять лет объём передаваемой информации
увеличивается вдвое, соответственно, встаёт задача передачи большого количества
информации с максимальной скоростью и высокой степенью достоверности на большие
расстояния и её обработка.
Ведущая
р ...