Global Informatics
где
- число слоев,
- эффективная площадь кристалла.
Полученное количество слоев металлизации больше допустимого. Поэтому попробуем уменьшение шага трасс металлизации. Примем
.
Тогда
и
При этом:
Площадь сечения металлизации уменьшается на коэффициент
, а плотность тока увеличивается на этот же коэффициент. Получаем
что укладывается в заданные параметры.
Десятый слой остаётся свободным, на котором можно разместить контактные площадки и часть разводки, для разгрузки нижних слоёв, с большим шагом.
Статья в тему
Системы связи с подвижными объектами
Рассматривается прямолинейный диспетчерский участок железнодорожной магистрали (рис 1)
Рисунок 1. Диспетчерский участок
Использованные следующие аббревиатуры: ТВЛ - два провода трехфазной высоковольтной линии, ВЛС - воздушная линия связи, ДВ и ОВ - соответственно двух- и однопроводной волноводы. ...