Global Informatics
где
- число слоев,
- эффективная площадь кристалла.
Полученное количество слоев металлизации больше допустимого. Поэтому попробуем уменьшение шага трасс металлизации. Примем
.
Тогда
и
При этом:
Площадь сечения металлизации уменьшается на коэффициент
, а плотность тока увеличивается на этот же коэффициент. Получаем
что укладывается в заданные параметры.
Десятый слой остаётся свободным, на котором можно разместить контактные площадки и часть разводки, для разгрузки нижних слоёв, с большим шагом.
Статья в тему
Метрологические характеристики АЦП
Цель
работы: экспериментальное определение метрологических
характеристик АЦП, сравнение экспериментальных характеристик АЦП с паспортными
данными и методическими погрешностями АЦП с помощью NI
ELVIS и LabVIEW.
Задание:
. Ознакомится
с имеющейся на рабочем месте аппаратуро ...