Global Informatics
где
- число слоев,
- эффективная площадь кристалла.
Полученное количество слоев металлизации больше допустимого. Поэтому попробуем уменьшение шага трасс металлизации. Примем
.
Тогда
и
При этом:
Площадь сечения металлизации уменьшается на коэффициент
, а плотность тока увеличивается на этот же коэффициент. Получаем
что укладывается в заданные параметры.
Десятый слой остаётся свободным, на котором можно разместить контактные площадки и часть разводки, для разгрузки нижних слоёв, с большим шагом.
Статья в тему
Анализ электромагнитных реле
электромагнитный реле однофазный питание
Основные
направления экономического и социального развития предусматривают интенсивное
развитие автоматизации и роботизации всего народного хозяйства страны,
повышение энерговооруженности труда.
Решение
этих задач непосредственно связано с с ...