Global Informatics
где
- число слоев,
- эффективная площадь кристалла.
Полученное количество слоев металлизации больше допустимого. Поэтому попробуем уменьшение шага трасс металлизации. Примем
.
Тогда
и
При этом:
Площадь сечения металлизации уменьшается на коэффициент
, а плотность тока увеличивается на этот же коэффициент. Получаем
что укладывается в заданные параметры.
Десятый слой остаётся свободным, на котором можно разместить контактные площадки и часть разводки, для разгрузки нижних слоёв, с большим шагом.
Статья в тему
Роль, значения и функции электропитающих устройств
Развитие
телекоммуникационной сети базируется на внедрении новой электронной аппаратуры,
надежная и качественная работа которой во многом предопределяется возможностями
электропитающих устройств (ЭПУ) и токораспределитель сетей предприятий, а также
источников вторично э ...