Global Informatics
где
- число слоев,
- эффективная площадь кристалла.
Полученное количество слоев металлизации больше допустимого. Поэтому попробуем уменьшение шага трасс металлизации. Примем
.
Тогда
и
При этом:
Площадь сечения металлизации уменьшается на коэффициент
, а плотность тока увеличивается на этот же коэффициент. Получаем
что укладывается в заданные параметры.
Десятый слой остаётся свободным, на котором можно разместить контактные площадки и часть разводки, для разгрузки нижних слоёв, с большим шагом.
Статья в тему
Четырехканальный реограф на транзисторах
Реографией называется метод изучения состояния какой-либо системы
и происходящих в ней процессов по изменению электрического сопротивления этой
системы для постоянного или переменного тока. Реография - весьма точный метод,
так как даже очень малые изменения сопротивления могут быть за ...