Global Informatics
где
- число слоев,
- эффективная площадь кристалла.
Полученное количество слоев металлизации больше допустимого. Поэтому попробуем уменьшение шага трасс металлизации. Примем
.
Тогда
и
При этом:
Площадь сечения металлизации уменьшается на коэффициент
, а плотность тока увеличивается на этот же коэффициент. Получаем
что укладывается в заданные параметры.
Десятый слой остаётся свободным, на котором можно разместить контактные площадки и часть разводки, для разгрузки нижних слоёв, с большим шагом.
Статья в тему
Структура сеть компании Tele2, основанной на стандарте GSM-1800
Мы
проходили практику в ЗАО «Вотек Мобайл» (торговая марка Tele2).
В
последнее время Tele2 является наиболее активным и быстроразвивающимся сотовым
оператором в России. Его отличает востребованный в России формат дискаунтера,
единственного в России на этом рынке, а также европейс ...