Global Informatics
где
- число слоев,
- эффективная площадь кристалла.
Полученное количество слоев металлизации больше допустимого. Поэтому попробуем уменьшение шага трасс металлизации. Примем
.
Тогда
и
При этом:
Площадь сечения металлизации уменьшается на коэффициент
, а плотность тока увеличивается на этот же коэффициент. Получаем
что укладывается в заданные параметры.
Десятый слой остаётся свободным, на котором можно разместить контактные площадки и часть разводки, для разгрузки нижних слоёв, с большим шагом.
Статья в тему
Счетчики времени телефонных разговоров
В
условиях грядущего введения в действие системы повременной оплаты телефонных
разговоров возникает потребность следить за временем, проведенным у телефонного
аппарата. Для этой цели можно применять разного рода устройства, и с разной
эффективностью. Однако в общем случае применяются ...