Конструкция лазерного излучателя

Скорость обработки в импульсном режиме ,

где - диаметр зоны обработки (точки); - коэффициент перекрытия точек (обычно = 0,5¸0,9); -время паузы между импульсами, с.

Шаг точек , скорость обработки .

Соотношение длительности импульса и времени паузы в импульсном режиме характеризуется скважностью цикла .

Наиболее существенным и наиболее трудноопределяемым параметром электронного луча является его диаметр.

При заданных плотностях тока эмиссии с катода, температуре катода и сферической аберрации линзовой системы пучок электронов с максимальной силой тока может быть сфокусирован в пятно минимального диаметра [12]:

Здесь -постоянная электронно-оптической системы. С учетом этого выражения удельная мощность

На рисунке 1.2 представлены зависимости диаметра луча от силы тока и ускоряющего напряжения для резки, рассчитанные по выше приведенной формуле.

Высокие значения плотности мощности излучения приводят к существенному сокращению времени нагрева, плавления и испарения материала, обеспечивая скорости обработки, сравнимые со скоростью протекания физических процессов в объекте облучения. В свою очередь, благодаря высоким скоростям обработки и большой степени локальности источника нагрева протяженность участков материала, прилегающих к области воздействия.

Рисунок 1.2 Зависимость диаметра луча и удельной мощности , от ускоряющего напряжения при различных значениях мощности:

- = 100; 2 - = 500; 3 - = 1000; 4 - = 2000 Вт

Статья в тему

Цифровые устройства и микропроцессоры
  Современный этап развития вычислительной техники характеризуется разработкой микропроцессорных средств. Микропроцессоры (МП) используются в качестве элементной базы для реализации устройств обработки данных. При этом каждая сфера применения МП предъявляет свои специфические требования к и ...